Персоналии

• Просмотров: 121 | Комментариев : 0

Традиционные AlGaN/GaN-транзисторы - приборы, работающие в режиме обеднения. Для большинства применений необходимо реализовывать Е -режим работы, когда ток в канале не течет при нулевом напряжении на затворе. Возможность реализации работы транзистора в Е -режиме открывает широкие перспективы для проектирования цифровых схем и силовых устройств. В работе рассмотрен новый способ формирования нормально-закрытых транзисторов, работающих в Е -режиме, - использование p -GaN-слоя под затвором. В качестве метода формирования данного слоя выбрано плазмохимическое удаление p -GaN-слоя вне затвора. При этом возникают проблемы неоднородности травления по глубине и плохого контроля скорости травления. Разработана гетероструктура с дополнительным барьерным слоем AlN, который является стоп-слоем при травлении. Приведены результаты исследования влияния различных параметров гетероструктуры на концентрацию носителей в канале и, соответственно, на выходные характеристики транзистора, разработан технологический маршрут. По разработанному технологическому маршруту сформированы образцы нормально-закрытых транзисторов, максимальный ток стока которых в открытом состоянии составляет 350 мА/мм при напряжении на затворе 4 В, пробивное напряжение - около 550 В в закрытом состоянии при 0 В на затворе.

• Просмотров: 950 | Комментариев : 0

Проанализированы методы устранения дефектов топологии интегральных микросхем на фотошаблонах. Выявлены наиболее эффективные методы устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при производстве фотошаблонов под уровень ИС с нормами до 90 нм.

• Просмотров: 402 | Комментариев : 0

Представлен опыт применения многолучевого лазерного генератора изображения и электронно-лучевого генератора изображения с изменяемой геометрией луча для переноса изображения топологического рисунка интегральной схемы на фотошаблонах с использованием технологии, обеспечивающей геометрическую форму топологического элемента, максимально приближенную проектным данным. Адекватность разработанной технологии изготовления прецизионных фотошаблонов подтверждена результатами контроля при изготовлении смешанных комплектов.

• Просмотров: 1207 | Комментариев : 0