Представлены результаты исследований тонких пленок ZnO:Ga, полученных магнетронным распылением соответствующей мишени в среде аргона и аргона с 5%-ным содержанием водорода без нагрева подложки. Показано, что удельное сопротивление и стабильность во времени пленок ZnO:Ga существенно зависит от их толщины, воздействия солнечного излучения, внешней окружающей среды. Установлено, что легирование пленок ZnO:Ga водородом позволяет существенно снизить их удельное сопротивление, а повышения стабильности пленок во времени можно достигнуть с помощью покрытия, защищающего от воздействия внешней газовой среды.
- Просмотров: 1274 | Комментариев : 0
Представлены результаты исследований технологии тонких пленок ZnO для использования в составе интегральных МЭМС-устройств. Показано, что удельное сопротивление и стабильность во времени пленок ZnO:Ga существенно зависят от их толщины, воздействия солнечного излучения, внешней окружающей среды. Причиной нестабильности тонких пленок ZnO являются процессы генерации и залечивания кислородных вакансий, создающие донорные уровни в запрещенной зоне ZnO.
- Просмотров: 1147 | Комментариев : 0