Влияние условий формирования на свойства тонких пленок ZnO:Ga, осажденных методом магнетронного распыления на холодную подложку

Влияние условий формирования на свойства тонких пленок ZnO:Ga, осажденных методом магнетронного распыления на холодную подложку

Раздел находится в стадии актуализации

Представлены результаты исследований тонких пленок ZnO:Ga, полученных магнетронным распылением соответствующей мишени в среде аргона и аргона с 5%-ным содержанием водорода без нагрева подложки. Показано, что удельное сопротивление и стабильность во времени пленок ZnO:Ga существенно зависит от их толщины, воздействия солнечного излучения, внешней окружающей среды. Установлено, что легирование пленок ZnO:Ga водородом позволяет существенно снизить их удельное сопротивление, а повышения стабильности пленок во времени можно достигнуть с помощью покрытия, защищающего от воздействия внешней газовой среды.
Козьмин Александр Михайлович
Национальный исследовательский институт «МИЭТ»
Шулятьев Алексей Сергеевич
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Поломошнов Сергей Александрович
НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Боголюбова Дарья Николаевна
ОАО «Полема» (г. Тула)
Шаманаев Сергей Владимирович
ООО «НПП «Технология» (г. Москва)

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru