Формирование нанометровых слоев фокусированным ионным пучком

Раздел находится в стадии актуализации

Разработана методика формирования периодических протяженных (до 30 мкм) нанометровых слоев с характерными поперечными размерами 70 нм и глубиной 2-3 нм. Измерена скорость травления пучком ионов галлия, ускоренных напряжением 30 кВ, таких материалов, как GaAs, AlGaN, Al и Si, используемых для создания акустоэлектронных преобразователей. Показана возможность полировки ионным пучком поверхности AlGaN до уровня шероховатости 0,5-0,7 нм.
  • Опубликовано в разделе: Нанотехнологии
  • Библиографическая ссылка:
  • Источник финансирования: Работа выполнена при финансовой поддержке Федерального агентства по науке и инновациям (госконтракты № 02.523.12.3013 и № 02.513.11.3152).
Царик Константин Анатольевич
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Лосев Виктор Васильевич
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Бараш Сергей Владимирович
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», Москва, Россия

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru