Рассмотрено формирование углеродных наноструктур методом химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы тлеющего разряда. Исследования проводились в диапазоне температур 300-700 °С. Изучено влияние толщины пленки Ni катализатора и концентрации углеродсодержащего компонента в газовой фазе на структуру углеродного осадка. Получен воспроизводимый рост массива однородных вертикальных нанотрубок или графеновых чешуек при низкой температуре ~350 °С. Исследованы электрофизические свойства полученных структур.