The formation of nanostructures by the method of the chemical precipitation from the gas phase using PECVD and glow-discharge plasma has been considered. The investigations were carried out in the 3000 - 700 °C temperature range. The influence of the Ni catalyst thickness and of the concentration of the carbon-containing components in vapor phase on the carbonic deposit structure has been studied. The productive growth of the homogeneous vertical nanotubes and grapheme flakes at 350 °C has been obtained. The electrophysical features of the obtained structures have been studied.
Рассмотрено формирование углеродных наноструктур методом химического осаждения из газовой фазы с использованием плазмы тлеющего разряда. Исследования проводились в диапазоне температур 300-700 °С. Изучено влияние толщины пленки Ni катализатора и концентрации углеродсодержащего компонента в газовой фазе на структуру углеродного осадка. Получен воспроизводимый рост массива однородных вертикальных нанотрубок или графеновых чешуек при низкой температуре ~350 °С. Исследованы электрофизические свойства полученных структур.