Схемотехническое моделирование одиночных эффектов при воздействии тяжелых заряженных частиц в КМОП СБИС с суб-100-нм проектными нормами

Схемотехническое моделирование одиночных эффектов при воздействии тяжелых заряженных частиц в КМОП СБИС с суб-100-нм проектными нормами

Раздел находится в стадии актуализации

Традиционные подходы к схемотехническому моделированию одиночных эффектов при воздействии тяжелых заряженных частиц (ТЗЧ) в КМОП СБИС, основанные на использовании двухэкспоненциальной модели импульса тока ионизационной реакции, оказываются не всегда применимыми при переходе к суб-100-нм проектным нормам. Представлен обзор основных подходов к решению двух главных задач, возникающих при схемотехническом моделировании одиночных эффектов в суб-100-нм СБИС: учет влияния электрического режима на процесс формирования импульса ионизационного отклика и учет собирания заряда с трека ТЗЧ несколькими чувствительными элементами. В качестве решения первой задачи предложены подходы, основанные на использовании кусочно-линейного задания импульса тока на основе TCAD-расчетов, сдвоенного двухэкспоненциального источника тока и источника тока, учитывающего электрический режим транзистора. Рассмотрены способы моделирования ионизационного отклика нескольких элементов от одной ТЗЧ на основе использования lookup-таблиц и аналитических моделей зависимости ионизационного отклика от места попадания частицы. Проведенный анализ современных подходов к моделированию эффектов сбоев и импульсов ионизационной помехи в КМОП-микросхемах позволяет заключить, что наиболее гибким и физически точным является подход, основанный на использовании источника тока, учитывающего электрический режим транзистора и встраиваемого в Verilog-A код исходной модели.
Смолин Анатолий Александрович
АО «ЭНПО СПЭЛС», г. Москва, Россия; Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, Россия
Боруздина Анна Борисовна
ОАО «ЭНПО «Специализированные электронные системы» (г. Москва)
Уланова Анастасия Владиславовна
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, Россия
Яненко Андрей Викторович
АО «ЭНПО СПЭЛС», г. Москва, Россия
Согоян Армен Вагоевич
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, Россия
Никифоров Александр Юрьевич
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, Россия
Телец Виталий Арсеньевич
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ»
Чумаков Александр Иннокентьевич
Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ», г. Москва, Россия
Шелепин Николай Алексеевич
ОАО «НИИМЭ» (г. Москва)

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru