Исследование структуры и состава напряженного эпитаксиального слоя в гетерокомпозиции InAlAs/GaAs(100) методами просвечивающей электронной микроскопии

Исследование структуры и состава напряженного эпитаксиального слоя в гетерокомпозиции InAlAs/GaAs(100) методами просвечивающей электронной микроскопии

Раздел находится в стадии актуализации

Представлены результаты электронно-микроскопических исследований эпитаксиального слоя InAlAs на подложке GaAs(100). Установлено, что на границе раздела материалов присутствуют дислокации несоответствия, а в слое имеются остаточные деформации, искажающие решетку. В результате измерения параметров решетки слоя вдоль направления роста и перпендикулярно ему вдали от дислокаций несоответствия локально вычислен номинальный параметр решетки слоя и определена доля индия.
Ловыгин Михаил Вячеславович
Национальный исследовательский университет «МИЭТ»
Боргардт Николай Иванович
Национальный исследовательский университет МИЭТ, г. Москва, Россия
Бугаев Александр Сергеевич
Институт сверхвысокочастотной полупроводниковой электроники РАН
Волков Роман Леонидович
Национальный исследовательский университет МИЭТ, г. Москва, Россия
Зайбт Михаэль
4-й Физический институт Геттингенского университета (Германия)

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru