Персоналии

Представлены результаты исследования пористых материалов на основе оксидов различных металлов (FeO, ZnO, InO и др.) методами фотолюминесцентного анализа и атомно-силовой микроскопии. Рассмотрено влияние состава и структуры металлооксидных нанокомпозитов на особенности спектров фотолюминесценции и оптического пропускания.

• Просмотров: 1246 | Комментариев : 0

Для решения проблемы формообразования неспециализированных полимеров применяются микро- и наноэлектронные технологии нового поколения, например наноимпринтная литография. Частный случай наноимпринтной литографии - мягкая литография, которая включает в себя формирование топологии с использованием мягкого штампа, изготовленного путем оттиска (импринта) жесткого мастер-штампа. Следовательно, проработка возможности самостоятельного изготовления мастер-штампов для формирования оптоэлектронных шин печатных плат нового поколения из неспециализированных полимерных материалов общего применения является актуальной задачей. В работе для рационализации затрат на приобретение дорогостоящего жесткого мастер-штампа мягкой литографии разработан и реализован оригинальный технологический процесс изготовления мастер-штампа на основе фоторезиста SU-8. В ходе отработки предложенного технологического процесса определена причина формирования отрицательного наклона (T-topping) стенок мастер-штампа мягкой литографии. С целью исключения отрицательного наклона разработана и изготовлена серия отсекающих УФ-светофильтров для длин волн оптического излучения менее 350 нм. По экспериментальным данным измерений интенсивности УФ-излучения ртутной лампы i -линии автоматизированной установки совмещения и экспонирования EVG620 NIL построены зависимости ослабления интенсивности УФ-излучения от толщины функционального слоя разработанного УФ-светофильтра для длин волн оптического излучения 365 и 400 нм. Доказана эффективность применения разработанных УФ-светофильтров за счет устранения отрицательного наклона при проведении технологического процесса изготовления тестовой топологии мастер-штампа мягкой литографии. Мягкая литография позволит в перспективе создать печатные платы со встроенной оптоэлектронной шиной передачи данных в виде массива полимерных планарных оптических волноводов и элементов ввода-вывода оптического излучения.

• Просмотров: 487 | Комментариев : 0

Для формирования органических фоточувствительных структур применяются два подхода. При использовании первого создаются фотоактивные элементы слоистого типа, в которых активные слои наносятся поочередно и имеют резкую гетерограницу. В работе использован второй подход, основанный на формировании в органических фоточувствительных структурах распределенного (объемного) гетероперехода между фталоцианином металла и фуллереном. Рассмотрено влияние параметров формирования нанокомпозитного слоя «фталоцианин:фуллерен» на оптические и фотоэлектрические характеристики структур FTO/ZnPc:C/C/Al и FTO/ZnPc:C/C/BРhen/Al. Методом вакуумного термического осаждения изготовлены четыре типа структур с различным составом активных слоев. Конфигурация активных слоев менялась в результате изменения массы испаряемого вещества. Для слоя на основе фталоцианина цинка проведено исследование влияния температуры нагрева подложки на качество осаждаемых слоев. Выявлено, что оптимальная температура, при которой слои получаются равномерными и характеризуются наибольшим поглощением, равна 60 ºC. Исследованы спектры поглощения, пропускания и фоточувствительности образцов. Спектры пропускания содержат две выраженные области сильного поглощения, соответствующие слоям фуллерена и фталоцианина цинка. Показано влияние изменения доли фуллереновой компоненты на транспортные и фотоэлектрические параметры нанокомпозитных слоев и структур. Установлена оптимальная конфигурация активных слоев ZnPc:C/C. Показано, что внедрение дополнительного слоя BРhen, блокирующего дырки и являющегося достаточно тонким для транспорта электронов, позволяет значительно увеличить фотоответ и расширить диапазон чувствительности исследуемой структуры.

• Просмотров: 1217 | Комментариев : 0