Персоналии

Емельянов Алексей Владимирович
младший научный сотрудник Научно-образовательного центра «Зондовая микроскопия и нанотехнология» МИЭТ. Область научных интересов: органическая электроника, атомно-силовая микроскопия, одномолекулярная электроника.

Статьи автора

Методами атомно-силовой микроскопии и УФ-рассеяния исследована поверхность эпитаксиальных слоев кремния на сапфире (КНС). Проведен рентгеноструктурный анализ слоев КНС. Переходная область кремний-сапфир исследована методом фотоЭДС. Рассмотрена и экспериментально подтверждена проблема аккумуляции побочных продуктов синтеза кремния из моносилана. Обнаружено, что добавление хлорсодержащих реагентов в процесс эпитаксии позволяет исключить влияние данных продуктов на растущий слой, а также модифицировать микрорельеф поверхности. Исследования поверхности и структуры слоев КНС позволили определить, что рост пленок осуществляется по механизму Странски - Крастанова. Показано, что комбинированный метод, заключающийся в предварительном наращивании слоя КНС толщиной 30-60 нм из чистого SiH и дальнейшем доращивании слоя при соотношении расходов газовых компонентов 2SiH:1SiCl, является наиболее предпочтительным методом изготовления структур КНС с толщиной слоя от 300 нм и более.

  • Просмотров: 1584 | Комментариев : 0

Исследован процесс окисления пленки графена, содержащего один и несколько слоев, под действием ультрафиолетового облучения структуры в парах воды. Установлена закономерность и продемонстрировано различие в изменении топографии, а также в оптических свойствах графена, имеющего различное количество слоев. Показана возможность функционализации поверхности с модификацией энергетической структуры графена. Обсуждены и проанализированы различия в механизмах окисления под действием ультрафиолетового облучения однослойного и мультислойного графена. Продемонстрирована корреляция топографических дефектов свойств графенового материала и структурных дефектов, наблюдаемых на спектрах комбинационного рассеяния.

  • Просмотров: 1355 | Комментариев : 0

Исследованы процессы создания узкоспектральных фоточувствительных структур на основе J-агрегатов цианиновых красителей. Предложены два технологических подхода: электрокинетическое осаждение одиночных J-агрегатов в планарной конфигурации электродов и создание многослойных структур с чувствительным слоем из пленки J-агрегатов цианинового красителя и прозрачным электродом из проводящей сетки углеродных нанотрубок на гибкой подложке полиэтиленнафталата.

  • Просмотров: 1423 | Комментариев : 0

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru