The technology of forming the carbon emitters for the integrated field emission elements has been developed. The studies have revealed the modes of preparing various film structures of carbon: diamond, graphite, graphene-like. The low-temperature method for producing the ultrafine diamonds has been developed. The high-emission properties of the nanodiamond-graphite emitters have been provided due to the effect of self-organization of diamond nanocrystals in graphite films during deposition at low pressure vapor of ethanol using a highly-nonequilibrium microwave plasma.
Aleksey S. Timoshenkov
”Laboratory of Micro-Devices” Ltd., Moscow, Russia; National Research University of Electronic Technology, Moscow, Russia
1. Яфаров Р.К. Физика СВЧ вакуумно-плазменных нанотехнологий. М.: Физмат-лит, 2009. 216 с.
2. Автоэмиссия из наноструктур на основе карбида кремния (SiC) и влияние на нее образующихся субоксидных SiOx−покрытий. Ч.1 / П.Г. Бобовников, А.С. Ермаков, И.В. Матюшкин и др. // Изв. вузов. Электроника. – 2013. № 4. С. 311.
3. Davidovich M.V., Bushuev N.A., Yafarov R.K. Tunnel current in the presence of na-nosized film at the cathode // Proc. of Tenth International Vacuum Electron Sources Conference (IVESC) (Saint-Petersburg, Russia, June 30 – July 04, 2014). – 2014. − Р. 69.
4. Коншина Е.А. Поглощение и ширина оптической щели пленок a-C:H, полученных из ацетиленовой плазмы // ФТП. − 1999. − Т. 33. − Вып. 4. − С. 469−475.
5. Microwave plasma chemical synthesis of nanocrystalline carbon film structures and study their properties / V. Timoshenkov, N. Bushuev, R. Yafarov et al. // SPIE Optics + Photonics 2015 International Meeting. 2015 Optics + Photonics Technical program (San Diego, California, USA, August 9−13, 2015). − 2015. − P. 96.
6. Структура и способ изготовления интегральных автоэмиссионных элементов с эмиттерами на основе наноалмазных покрытий / Г.Я. Красников, Н.А. Зайцев, С.Н. Ор-лов и др. // Патент России № 2455724. 2012. Бюл. №19.
7. Yafarov R.K., Shanygin V.Ya. Formation of carbon subnanosize masking coatings on sili-con (100) in low pressure microwave plasma // Technical Physics Letters. – 2014. − Vol. 40. − No. 4. − Р. 280–283.