Флуктуационные явления в пленках никеля нанометровой толщины вблизи температуры плавления

Раздел находится в стадии актуализации

Исследованы флуктуации напряжения на тонких пленках никеля нанометровой толщины, возникающие при пропускании через пленочный образец постоянного тока, в процессе медленного термического нагрева. Показано, что положительные флуктуации (выбросы) напряжения обусловлены повышением сопротивления в локальных областях исследуемой пленки, вызванные ее локальными утонениями и возникновением разрывов в ней в результате начала процесса плавления. Экспериментально определена температура начала процесса плавления наноразмерных пленок никеля на окисленном кремнии: для пленок толщиной 5, 20 и 40 нм она равна 740, 815  и 875 К соответственно.
Жигальский Геннадий Павлович
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Карев Александр Владимирович
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Карев Иван Александрович
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Чулков Игорь Сергеевич
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Шмелев Сергей Сергеевич
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru