Оптимизация параметров процесса глубокого плазмохимического травления кремния для элементов МЭМС

Оптимизация параметров процесса глубокого плазмохимического травления кремния для элементов МЭМС

Исследованы зависимости характеристик глубокого травления кремния от параметров процесса. Для нахождения оптимальных режимов, обеспечивающих высокую селективность к маске и снижение апертурного эффекта, применен метод планирования многофакторного эксперимента. Результаты исследования использованы при изготовлении реальных структур МЭМС.
Анатолий Иванович Виноградов
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Николай Михайлович Зарянкин
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Евгений Петрович Прокопьев
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Сергей Петрович Тимошенков
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Юрий Александрович Михайлов
НПК «Технологический центр» МИЭТ
Поделиться