Оптимизация параметров процесса глубокого плазмохимического травления кремния для элементов МЭМС

Раздел находится в стадии актуализации

Исследованы зависимости характеристик глубокого травления кремния от параметров процесса. Для нахождения оптимальных режимов, обеспечивающих высокую селективность к маске и снижение апертурного эффекта, применен метод планирования многофакторного эксперимента. Результаты исследования использованы при изготовлении реальных структур МЭМС.
Виноградов Анатолий Иванович
Московский государственный институт электронной техники(технический университет)
Зарянкин Николай Михайлович
ООО «Лаборатория микроприборов», г. Москва, Россия
Прокопьев Евгений Петрович
Московский государственный институт электронной техники(технический университет)
Тимошенков Сергей Петрович
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Михайлов Юрий Александрович
НПК «Технологический центр» МИЭТ

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru