Исследование температурных зависимостей коэффициента термоЭДС и электропроводности тонких пленок материала фазовой памяти GeSbTe

Исследование температурных зависимостей коэффициента термоЭДС и электропроводности тонких пленок материала фазовой памяти GeSbTe

Раздел находится в стадии актуализации

В настоящее время активно исследуются халькогенидные полупроводники на основе материалов системы Ge-Sb-Te в связи с их успешным применением в оптической фазовой памяти и перспективами применения в электрической фазовой памяти. Проведено одновременное исследование температурных зависимостей коэффициента термоЭДС и электропроводности тонких пленок GeSbTe, осажденных вакуум-термическим испарением. Установлены структура и состав осажденных тонких пленок. Измерение термоЭДС указывает на p -тип проводимости слоев во всем температурном диапазоне. Установлено, что с увеличением температуры от комнатной до 135 °С коэффициент термоЭДС уменьшается от 450 до 360 мкВ/К, а удельное сопротивление - от 30,9 до 0,47 Ом·см. В диапазоне температур от 135 до 145 °С происходит резкое падение параметров - коэффициента термоЭДС до 35 мкВ/К, сопротивления до 0,0029 Ом·см, что обусловлено процессом кристаллизации. Оценка энергий активации коэффициента термоЭДС и электропроводности указывает на возможный двухканальный механизм проводимости в аморфных тонких пленках GeSbTe p -типа. Разработанный и изготовленный программно-аппаратный комплекс позволяет одновременно исследовать температурные зависимости коэффициента термоЭДС и электропроводности тонких пленок материалов фазовой памяти.
Филатов Сергей А.
АО «Научно-исследовательский институт молекулярной электроники», г. Москва, Россия
Бабич Алексей Вальтерович
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Преснухина Анна А.
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru