Формирование пленок тройной системы CoNiFe электрохимическим осаждением

Магнитомягкие тонкие пленки тройной системы CoNiFe являются основой для хранения магнитных данных с высокой плотностью. Электрохимическое осаждение пленок тройной системы CoNiFe по сравнению с «сухими» процессами дает более однородное покрытие с меньшим количеством дефектов и позволяет увеличить толщину пленок без механических напряжений. В работе изучена природа явлений, происходящих в электролите для электрохимического осаждения пленок CoNiFe и приводящих к различию относительного содержания элементов в электролите и пленке. Экспериментально исследован водородный показатель хлоридных электролитов в диапазоне температур 25-70 °С. Проведено электрохимическое осаждение пленок СоNiFe при температуре 70 °С. Показано, что растворы солей CoCl, NiCl, FeCl при концентрации от 0,006 до 1 моль/л характеризуются сложным процессом образования ионного баланса в одиночных и смешанных растворах. Осаждение пленок CoNiFe проведено из хлоридного электролита c отношением содержания компонентов 1:1:1 при средней концентрации 0,083 моль/л каждого компонента. Установлено, что содержание компонентов в пленке при электрохимическом осаждении из трехкомпонентного раствора солей CoCl, NiCl, FeCl с равной концентрацией каждого компонента не соответствует составу электролита, но приближается к нему при уменьшении концентрации каждого компонента при большой плотности тока.
  • Ключевые слова: пленки СоNiFe, хлоридный электролит, ионный баланс, электрохимическое осаждение
  • Информация о финансировании: работа выполнена с использованием оборудования Центра коллективного пользования «Функциональный контроль и диагностика микро- и наносистемной техники» на базе НПК «Технологический центр» (г. Москва).
  • Опубликовано в разделе: Технологические процессы и маршруты
  • Для цитирования: Формирование пленок тройной системы CoNiFe электрохимическим осаждением / Р.Д. Тихонов, С.А. Поломошнов, В.В. Амеличев и др. // Изв. вузов. Электроника. 2021. Т. 26. № 3-4. С. 246–254. DOI: https://doi.org/ 10.24151/1561-5405-2021-26-3-4-246-254
Роберт Дмитриевич Тихонов
НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия
Сергей Александрович Поломошнов
НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Владимир Викторович Амеличев
НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия
Андрей Андреевич Черемисинов
НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия
Алексей Михайлович Ковалев
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Поделиться