<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="research-article" dtd-version="1.2" xml:lang="en">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-id journal-id-type="issn">1561-5405</journal-id>
	    <journal-id journal-id-type="doi">10.24151/1561-5405</journal-id>	  
      <journal-id journal-id-type="publisher-id">Proceedings of Universities. Electronics</journal-id>
      <journal-title-group>
        <journal-title xml:lang="en">Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics"</journal-title>
        <trans-title-group xml:lang="ru">
          <trans-title>Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника»</trans-title>
        </trans-title-group>        
      </journal-title-group>      
      <issn publication-format="print">1561-5405</issn>
      <issn publication-format="online">2587-9960</issn>
      <publisher>
        <publisher-name xml:lang="en">National Research University of Electronic Technology</publisher-name>
        <publisher-name xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>                                    
      
    <article-id pub-id-type="doi">10.24151/1561-5405-2021-26-3-4-246-254</article-id><article-id pub-id-type="udk">621.3.049.77:[539.23:621.359]</article-id><article-categories><subj-group><subject>Технологические процессы и маршруты</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">CoNiFe Triple System Films Formation by Electrochemical Deposition</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Формирование пленок тройной системы CoNiFe электрохимическим осаждением</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Тихонов Роберт Дмитриевич </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Тихонов</surname><given-names>Роберт Дмитриевич </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Dmitrievich</surname><given-names>Tikhonov Robert</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Tikhonov Robert Dmitrievich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Поломошнов Сергей Александрович </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Поломошнов</surname><given-names>Сергей Александрович </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Aleksandrovich</surname><given-names>Polomoshnov Sergey</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Polomoshnov Sergey Aleksandrovich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-2"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Амеличев Владимир Викторович </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Амеличев</surname><given-names>Владимир Викторович </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Viktorovich</surname><given-names>Amelichev Vladimir</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Amelichev Vladimir Viktorovich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Черемисинов Андрей Андреевич </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Черемисинов</surname><given-names>Андрей Андреевич </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Andreevich</surname><given-names>Cheremisinov Andrey</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Cheremisinov Andrey Andreevich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Ковалев Алексей Михайлович </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Ковалев</surname><given-names>Алексей Михайлович </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Mikhaylovich</surname><given-names>Kovalev Aleksey</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Kovalev Aleksey Mikhaylovich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-3"/></contrib><aff id="AFF-1" xml:lang="ru">НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия</aff><aff id="AFF-2" xml:lang="ru">НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия</aff><aff id="AFF-3" xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия</aff></contrib-group><fpage>246</fpage><lpage>254</lpage><self-uri>http://ivuz-e.ru/issues/3-4-_2021/formirovanie_plenok_troynoy_sistemy_conife_elektrokhimicheskim_osazhdeniem/</self-uri><self-uri content-type="pdf">http://ivuz-e.ru/download/34_2021_2710.pdf</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>High-permeability films of CoNiFe triple system form the basis for high-density magnetic data storage. Electrochemical deposition of CoNiFe films, as contrasted with «dry» processes, gives more homogeneous coating with lesser defect level and allows reinforcing the films thickness without stresses. This study investigates the nature of the phenomena taking place at electrochemical deposition of CoNiFe films and leading to the difference in the relative content of the elements in the electrolyte and in the film. The hydrogen exponent of chloride electrolytes was examined in the temperature range of 25-70 °C and electrochemical deposition of CoNiFe films at 70 °C was studied. It was demonstrated that CoCl, NiCl, FeCl salt solutions with concentration from 0,006 to 1 mole/l are characterized by complex process of ion balance formation in single and mixed solutions. The deposition of CoNiFe films was carried out from chloride electrolyte with a component content ratio of 1:1:1 at an average concentration of 0,083 mole/l of each component. It has been established that the content of the component in the film at electrochemical deposition of three-component solution CoCl, NiCl, FeCl with equal concentration of each component did not correspond to the composition of the electrolyte but was closest to the composition of the electrolyte at a decrease in the concentration of each component at high current density.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p>Магнитомягкие тонкие пленки тройной системы CoNiFe являются основой для хранения магнитных данных с высокой плотностью. Электрохимическое осаждение пленок тройной системы CoNiFe по сравнению с «сухими» процессами дает более однородное покрытие с меньшим количеством дефектов и позволяет увеличить толщину пленок без механических напряжений. В работе изучена природа явлений, происходящих в электролите для электрохимического осаждения пленок CoNiFe и приводящих к различию относительного содержания элементов в электролите и пленке. Экспериментально исследован водородный показатель хлоридных электролитов в диапазоне температур 25-70 °С. Проведено электрохимическое осаждение пленок СоNiFe при температуре 70 °С. Показано, что растворы солей CoCl, NiCl, FeCl при концентрации от 0,006 до 1 моль/л характеризуются сложным процессом образования ионного баланса в одиночных и смешанных растворах. Осаждение пленок CoNiFe проведено из хлоридного электролита c отношением содержания компонентов 1:1:1 при средней концентрации 0,083 моль/л каждого компонента. Установлено, что содержание компонентов в пленке при электрохимическом осаждении из трехкомпонентного раствора солей CoCl, NiCl, FeCl с равной концентрацией каждого компонента не соответствует составу электролита, но приближается к нему при уменьшении концентрации каждого компонента при большой плотности тока.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>пленки СоNiFe</kwd><kwd>хлоридный электролит</kwd><kwd>ионный баланс</kwd><kwd>электрохимическое осаждение</kwd></kwd-group><funding-group><funding-statement xml:lang="ru">работа выполнена с использованием оборудования Центра коллективного пользования «Функциональный контроль и диагностика микро- и наносистемной техники» на базе НПК «Технологический центр» (г. Москва).</funding-statement></funding-group></article-meta>
  </front>
  <body/>
  <back>
    <ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Tabakovic I., Venkatasamy V. Preparation of metastable CoFeNi alloys with ultra-high magnetic saturation (Bs = 2.4–2.59 T) by reverse pulse electrodeposition // J. of Magn. and Magn. Mat. 2018. Vol. 452. P. 306–314. DOI: https://doi.org/10.1016/j.jmmm.2017.12.003</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Electroplated Fe-Co-Ni films prepared in ammonium-chloride-based plating baths / T. Yanai, K. Koda, J. Kaji et al. // AIP Advances. 2018. Vol. 8. Iss. 5. P. 056127. DOI: https://doi.org/10.1063/1.5007782</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Romankov S., Park Y.C., Shchetinin I.V. Mechanical intermixing of elements and self-organization of (FeNi) and (CoFeNi) nanostructured composite layers on a Ti sheet under ball collisions // J. of Alloys and Comp. 2015. Vol. 653. P. 175–186. DOI: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2015.08.269</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Li D., Podlaha E. Template-assisted electrodeposition of Fe-Ni-Co nanowires: Effects of electrolyte pH and sodium lauryl sulfate // J. Electrochem. Soc. 2017. Vol. 164 (13). P. D843–D851. DOI: https://doi.org/10.1149/2.0931713jes</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Yang Y. Preparation of Fe-Co-Ni ternary alloys with electrodeposition // Int. J. Electrochem. Sci. 2015. Vol. 10. Issue 6. P. 5164–5175.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Коровин Н.В. О катодном процессе при электроосаждении сплава железо-никель // Журнал неорганической химии. 1957. Т. 2. № 9. С. 2259–2263.</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Mechanism of anomalous type electrodeposition of Fe-Ni alloys from sulfate solutions / H. Nakano, M. Matsuno, S. Oue et al. // Mater. Trans. 2004. Vol. 45. No. 11. P. 3130–3135.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Microstructure and tribological properties of electrodeposited Ni–Co alloy deposits / L. Wang, Y. Gao, Q. Xue et al. // Appl. Surf. Sci. 2005. Vol. 242 (3-4). P. 326–332. DOI: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2004.08.033</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation xml:lang="ru">The influence of saccharin on the electrodeposition and properties of Co–Ni alloy thin films / S. Tebbakh, Y. Messaoudi, A. Azizi et al. // Transactions of the IMF – The International Journal of Surface Engineering and Coatings. 2015. Vol. 93 (4). P. 196–204. DOI: https://doi.org/10.1179/0020296715Z.000000000247</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Preparation, structure and giant magnetoresistance of electrodeposited Fe-Co/Cu multilayers / В.G. Tóth, L. Péter, L. Pogány et al. // J. Electrochem. Soc. 2014. Vol. 161 (4). P. D154–D162. DOI: https://doi.org/10.1149/2.053404jes</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Tikhonov R. Congruent electrochemical deposition of NiFe alloy: The results of the research. Beau Bassin: Lambert Academic Publishing, 2019. 204 p.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Тихонов Р.Д. Электрохимическое осаждение сплава NiFe при температуре 70 ºС // Электрохимия. 2020. Т. 56. № 7. С. 666–669. DOI: https://doi.org/10.31857/S0424857020070063</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>13.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Тихонов Р.Д., Черемисинов А.А., Горелов Д.В., Казаков Ю.В. Магнитные свойства пленок Co-Ni-Fe, полученных электрохимическим осаждением по методу Тихонова // Нано- и микросистемная техника. 2020. Т. 22. № 3. С. 123–135. DOI: https://doi.org/10.17587/nmst.22.123-135</mixed-citation></ref><ref id="B14"><label>14.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Lee M.-S. Use of the bromley equation for the analysis of ionic equilibria in mixed ferric and ferrous chloride solutions at 25 °C // Metallurgical and Materials Transactions B. 2006. Vol. 37 (2). P. 173–179. DOI: https://doi.org/10.1007/BF02693146</mixed-citation></ref><ref id="B15"><label>15.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Lee M.-S., Oh Y.-J. Chemical equilibria in a mixed solution of nickel and cobalt chloride // Mater. Trans. 2005. Vol. 46 (1). P. 59–63. DOI: https://doi.org/10.2320/matertrans.46.59</mixed-citation></ref></ref-list>    
  </back>
</article>
