Влияние морфологии нижнего электрода на диэлектрические характеристики планарной структуры металл-сегнетоэлектрик-металл

Влияние морфологии нижнего электрода на диэлектрические характеристики планарной структуры металл-сегнетоэлектрик-металл

Раздел находится в стадии актуализации

Исследовано влияние морфологии границ раздела структур типа металл-сегнетоэлектрик-металл на их электрофизические характеристики. Проведены экспериментальные исследования влияния буферных слоев, а также методов напыления электрода на морфологию сегнетоэлектрической пленки. Теоретический анализ диэлектрических свойств проведен на основе экспериментальных данных для гетероструктур, однако итоговая оценка проведена с помощью методов математического моделирования.
Рощин Владимир Михайлович
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Силибин Максим Викторович
Московский государственный институт электронной техники (технический университет)
Яковлев Виктор Борисович
Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия; Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук, г. Москва, Россия
Яковлева Елизавета Николаевна
Национальный исследовательский университет «МИЭТ»

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru