1561-5405 10.24151/1561-5405 Proceedings of Universities. Electronics Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics" Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника» 1561-5405 2587-9960 National Research University of Electronic Technology Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" 12871805621.3.049.77Технология микроэлектроникиStudy on Technological Process of Removing Clear Defects on PhotomaskИсследование технологического процесса устранения прозрачных дефектов маскирующего покрытия фотошаблоновОвчинников Вячеслав Алексеевич ОвчинниковВячеслав Алексеевич AlekseevichOvchinnikov VyacheslavOvchinnikov Vyacheslav AlekseevichНациональный исследовательский университет «МИЭТ», г . Москва, Россия1117http://ivuz-e.ru/issues/5-_2008/issledovanie_tekhnologicheskogo_protsessa_ustraneniya_prozrachnykh_defektov_maskiruyushchego_pokryti/http://ivuz-e.ru/download/5_2008_2767.pdf

A relationship of the deposited material line width variation depending on the moving speed of the coordination stage and laser radiation energy has been determined. The technological conditions of removing clear defects have been established.

Установлены закономерности изменения ширины линии осажденного материала в зависимости от скорости перемещения координатного стола установки и энергии лазерного излучения. Определены технологические

 Аваков С.М., Карпович С.Е., Овчинников В.А., Титко Е.А. Операции контроля топологии в технологическом процессе изготовления фотошаблонов // Электроника. Инфо. - 2008. - № 1. - С. 43.Ионно-лучевая установка для ремонта фотошаблонов // Электроника. - 1986. - № 1 - Т. 59. - С. 98.White R., Verbeek М., Bozak R., Кlos М. Use of nanomachining as а technique to reduce scrap of high-end photomasks // 21-st Annual BACUS Symposium оп Photomask Technology / Ed. G.T. Dао, B.J. Grenon. - 2002. - Vol. 4562. - Р. 213-224.SEMI Р23 Guidelines for Programmed Defect Mask and Benchmark Procedures for Sensitivity Analysis of Mask Defect Inspection Systems. - SEMl. -1993, 1995.Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микропроцессоров. - М.: Радио и связь, 1987. - С. 237.