Алгоритмы логико-топологического синтеза библиотечных элементов и блоков с регулярной структурой для технологических норм проектирования 32 нм

Алгоритмы логико-топологического синтеза библиотечных элементов и блоков с регулярной структурой для технологических норм проектирования 32 нм

Раздел находится в стадии актуализации

Переход на уровень нанометровых технологий с размером транзистора 32 нм и ниже приводит к формированию нового направления в наноэлектронике - проектирование на основе транзисторов с вертикальным затвором (FinFET). При уменьшении размеров транзисторов до 32 нм и ниже применение FinFET-технологии становится одним из немногих способов повышения быстродействия и снижения потребляемой мощности. Данное направление меняет маршрут проектирования и требует разработки новых подходов как в логическом, так и в топологическом проектировании. Традиционный подход к проектированию микроэлектронных систем основывается на независимом решении задач логического и топологического проектирования. Однако совмещение логического и топологического синтеза приводит к значительному увеличению размерности задачи, что, в свою очередь, сказывается на времени проектирования. Разработаны алгоритмы логического анализа и синтеза микроэлектронных схем с FinFET-технологией при совместном решении проблем логического и топологического синтеза. Проблема сокращения размерности задачи решена путем введения ограничений на топологическую реализацию при совмещении логического и топологического синтеза. Ограничения осуществляются за счет разработки и использования регулярного топологического шаблона с фиксированной топологией в нижних слоях. Предложенный подход позволяет уменьшить количество правил проектирования в сотни тысяч раз (в зависимости от сложности схемы) по сравнению с нерегулярными структурами, а применение IG FinFET-транзисторов обеспечивает лучшие характеристики по быстродействию и мощности по сравнению со стандартной КМОП-технологией.
Гаврилов Сергей Витальевич
Институт проблем проектирования в микроэлектронике Российской академии наук, г. Москва, Россия
Карева Елена Сергеевна
Институт проблем проектирования в микроэлектронике Российской академии наук, г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия
Рыжова Дарья Игоревна
Институт проблем проектирования в микроэлектронике Российской академии наук, г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия

124498, г. Москва, г. Зеленоград, площадь Шокина, дом 1, МИЭТ, ауд. 7231

+7 (499) 734-62-05
magazine@miee.ru