<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="research-article" dtd-version="1.2" xml:lang="en">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-id journal-id-type="issn">1561-5405</journal-id>
	    <journal-id journal-id-type="doi">10.24151/1561-5405</journal-id>	  
      <journal-id journal-id-type="publisher-id">Proceedings of Universities. Electronics</journal-id>
      <journal-title-group>
        <journal-title xml:lang="en">Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics"</journal-title>
        <trans-title-group xml:lang="ru">
          <trans-title>Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника»</trans-title>
        </trans-title-group>        
      </journal-title-group>      
      <issn publication-format="print">1561-5405</issn>
      <issn publication-format="online">2587-9960</issn>
      <publisher>
        <publisher-name xml:lang="en">National Research University of Electronic Technology</publisher-name>
        <publisher-name xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>                                    
      
    <article-id pub-id-type="doi">10.24151/1561-5405-2019-24-2-129-136</article-id><article-id pub-id-type="udk">621.3.049.77.002</article-id><article-categories/><title-group><article-title xml:lang="en">Spectrophotometric Monitoring Chloride Electrolyte for Electrochemical Deposition of Permalloy</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Спектрофотометрический контроль хлоридного электролита для электрохимического осаждения пермаллоя</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Тихонов Роберт Дмитриевич </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Тихонов</surname><given-names>Роберт Дмитриевич </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Dmitrievich</surname><given-names>Tikhonov Robert</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Tikhonov Robert Dmitrievich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Поломошнов Сергей Александрович </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Поломошнов</surname><given-names>Сергей Александрович </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Aleksandrovich</surname><given-names>Polomoshnov Sergey</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Polomoshnov Sergey Aleksandrovich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-2"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Костюк Дмитрий Валентинович </string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Костюк</surname><given-names>Дмитрий Валентинович </given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Valentinovich</surname><given-names>Kostyuk Dmitriy</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Kostyuk Dmitriy Valentinovich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><aff id="AFF-1" xml:lang="ru">НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия</aff><aff id="AFF-2" xml:lang="ru">НПК «Технологический центр», г. Москва, Россия; Национальный исследовательский университет «МИЭТ», г. Москва, Россия</aff></contrib-group><fpage>129</fpage><lpage>136</lpage><self-uri>http://ivuz-e.ru/issues/2-_2019/spektrofotometricheskiy_kontrol_khloridnogo_elektrolita_dlya_elektrokhimicheskogo_osazhdeniya_permal/</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>The use of chloride electrolytes for electrochemical deposition of NiFe permalloy seems to be promising because the sulphate electrolytes in presence of sulphur are non-stable. The magnetic properties of NiFe are very sensitive to rejection of the whole component o 4.26. In this work the control of preparing the electrolyte for electrochemical deposition has been conducted using the spectrophotometric investigation of the chloride electrolyte. The analysis of the electrolyte absorption spectrum and scattering of light by particles of iron hydroxide colloid has revealed that the dissociation of the two-valent iron and the mechanism of anomalous electrodeposition depend on temperature and affect the electrochemical deposition of the permalloy films. It has been noted, that the specific feature of the FeCl solution during hydrolysis of FeCl is the iron hydroxide precipitate (Fe(OH) in the form of colloid particles with the complex forming boric acid. It has been shown that from the chloride electrolyte with iron chloride solution filtration nickel is precipitated better than iron. It has been stated that normal congruent deposition of the NiFe alloy films takes place and the abnormal codeposition is excluded.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p>Использование хлоридных электролитов для электрохимического осаждения пермаллоя NiFe перспективно, так как сульфатные электролиты при наличии серы являются нестабильными. Магнитные параметры пленок сплава NiFe очень чувствительны к отклонению состава от молярного соотношения компонентов, равного 4,26. В работе контроль точности приготовления хлоридного электролита для электрохимического осаждения пермаллоя проведен с использованием спектрофотометрии. Анализ электролита по спектрам поглощения и рассеивания света коллоидными частицами гидроксида железа показал, что электролитическая диссоциация двухвалентного железа и механизм аномального соосаждения никеля и железа зависят от температуры и влияют на электрохимическое осаждение пленок пермаллоя. Отмечено, что специфической особенностью раствора хлорида железа при гидролизе является выделение осадка гидроксида железа в виде коллоидных частиц с комплексообразователем - борной кислотой. Показано, что из хлоридного электролита после фильтрации раствора хлорида железа никель осаждается лучше, чем железо. Установлено, что происходит нормальное конгруэнтное осаждение пленок сплава NiFe и аномальное соосаждение исключается.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>хлоридный электролит</kwd><kwd>пленки пермаллоя</kwd><kwd>электрохимическое осаждение</kwd><kwd>спектрофотометрический контроль</kwd></kwd-group><funding-group/></article-meta>
  </front>
  <body/>
  <back>
    <ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Коровин Н.В. О катодном процессе при электроосаждении сплава железо – никель // Журнал неорганической химии. – 1957. – Т. 2. – Вып. 9. – С. 2259–2263.</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Harris Th.M., Wilson J.L. Electroplating bath for nickel-iron alloys and method // Patent US 5932082 A, 1999.</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Afshar А., Dolati A.G., Ghorbani M. Electrochemical characterization of the Ni-Fe alloy electrodeposition from chloride-citrate-glycolic acid solutions // Materials Chemistry and Physics. – 2002. – Vol. 77. – P. 352–358.</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Electrodeposition and characterization of nanocrystalline Ni-Fe Alloys / R. Abdel-Karim, Y. Reda, M. Muhammed et al. // Journal of Nanomaterials. – 2011. – Vol. 2011. – Article ID519274. – 8 p.</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Тихонов Р.Д. Электроосаждение сплава NiFe для производства интегральных микросхем // Гальванотехника и обработка поверхности. – 2015. – №4. – C. 13–19.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Tikhonov R.D. Normal electrochemical deposition of NiFe films// Advances in Research. – 2017. – No. 11(2). – P. 1–10.</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Создание интегральных компонентов усиления магнитного сигнала в бес-проводной МЭМС на основе магниторезистивных элементов / В.В. Амеличев, В.В. Аравин, А.Н. Белов и др. // Нано- и микросистемная техника. – 2013. – № 3. – С. 29–33.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Развитие технологий магнитополупроводниковых микросистем / В.В. Аме-личев, И.Е. Абанин, В.В. Аравин и др. // Изв. вузов. Электроника. – 2015. – Т. 20. – № 5. – С. 505–510.</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Локальное электрохимическое осаждение пермаллоя на кремниевые пласти-ны с магниторезистивными наноструктурами / С.В. Шаманаев, Р.Д. Тихонов, А.А. Черемисинов и др. // Изв. вузов. Электроника. – 2015. – Т. 20. – № 3. – С. 313–316.</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Магнитомягкие пленки пермаллоя, полученные электрохимическим осаж-дением из хлоридного электролита / Р.Д. Тихонов, С.А. Поломошнов, Д.В. Горелов и др // Оборонный комплекс – научно-техническому прогрессу России. – 2015. – № 4. – С. 26–31.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Ляндсберг Р.А., Саушкина Н.А. Лабораторный практикум по общей и неор-ганической химии. – Петропавловск-Камчатский: КамчатГТУ, 2008. – 105 с.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Коровин Н.В. Общая химия. – М.: Высшая школа, 1998. – 559 с.</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>13.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Электрохимический процесс осаждения пленок пермаллоя для магнитопо-лупроводниковых микросистем / В.В. Амеличев, С.А. Поломошнов, Н.Н. Нико-лаева и др. // Изв. вузов. Электроника. – 2016. – T. 21. – № 5. – С. 482–484.</mixed-citation></ref></ref-list>    
  </back>
</article>
