<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="research-article" dtd-version="1.2" xml:lang="en">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-id journal-id-type="issn">1561-5405</journal-id>
	    <journal-id journal-id-type="doi">10.24151/1561-5405</journal-id>	  
      <journal-id journal-id-type="publisher-id">Proceedings of Universities. Electronics</journal-id>
      <journal-title-group>
        <journal-title xml:lang="en">Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics"</journal-title>
        <trans-title-group xml:lang="ru">
          <trans-title>Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника»</trans-title>
        </trans-title-group>        
      </journal-title-group>      
      <issn publication-format="print">1561-5405</issn>
      <issn publication-format="online">2587-9960</issn>
      <publisher>
        <publisher-name xml:lang="en">National Research University of Electronic Technology</publisher-name>
        <publisher-name xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>                                    
      
    <article-id pub-id-type="doi">10.24151/1561-5405-2024-29-2-175-184</article-id><article-id pub-id-type="risc">NRUVQC</article-id><article-id pub-id-type="udk">621.372.56</article-id><article-categories><subj-group><subject>Элементы интегральной электроники</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">The effect of pulse power on the parameters of film absorbing elements</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Влияние импульсной мощности на параметры пленочных поглощающих элементов</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Пилькевич Антон Владимирович</string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Пилькевич</surname><given-names>Антон Владимирович</given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Pilkevich</surname><given-names>Anton V.</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Anton V. Pilkevich</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Садков Виктор Дмитриевич</string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Садков</surname><given-names>Виктор Дмитриевич</given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Sadkov</surname><given-names>Viktor D.</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Viktor D. Sadkov</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><aff id="AFF-1" xml:lang="ru">Нижегородский государственный технический университет им. Р. Е. Алексеева (Россия, 603950, г. Нижний Новгород, ул. Минина, д. 24)</aff></contrib-group><pub-date iso-8601-date="2026-02-11" date-type="pub" publication-format="electronic"><day>11</day><month>02</month><year>2026</year></pub-date><volume>Том. 29 №2</volume><fpage>175</fpage><lpage>184</lpage><self-uri>http://ivuz-e.ru/issues/..Том+29+№2/vliyanie_impulsnoy_moshchnosti_na_parametry_plenochnykh_pogloshchayushchikh_elementov/</self-uri><self-uri content-type="pdf">http://ivuz-e.ru#</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>Absorbing film elements are widely used for the construction of waveguide, coaxial, strip and microstrip attenuators and adaptoattenuators, as well as in hybrid RF and microwave integrated circuits. The current state of their development is characterized by the search for ways of electrical characteristics improvement, and better understanding of the processes occurring in the absorbing elements. The thermal stability of absorbing elements under pulsed action, depending on a number of difficult-to-model structural and technological factors, is of considerable interest. In this work, using the Elcut software package, a simulation of the operating mode of an absorbing film element was carried out, in which all the heat generated by the input pulses is absorbed by the film, with account for the dependences of its specific surface resistance and specific heat capacity on temperature. The dependences of the heat release density, the distribution of the specific surface resistance and the electric field strength over the surface of the resistive film are investigated for a number of topologies of absorbing elements of large and small attenuations - typical and optimized, with a more uniform distribution of current density and potential gradients over the surface of the film. A technique is proposed and the dependences are given: of the absorbing element’s input resistance and attenuation on the energy of the input pulse, on the specific heat capacity and on the temperature coefficient of resistivity, with account for their temperature dependences for typical materials of resistive films. It has been demonstrated that changes in the key parameters of the absorbing elements can exceed in some cases 40 % in attenuation and 80 % in input resistance. The proposed technique can be used to determine the maximum energy of the input pulse signal by the highest instantaneous permissible overheating temperature of the resistive film.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p>Современному состоянию развития пленочных поглощающих элементов, применяющихся для построения волноводных, коаксиальных, полосковых и микрополосковых аттенюаторов и адаптоаттенюаторов, а также в гибридных интегральных схемах ВЧ- и СВЧ-диапазонов, присущи поиск путей повышения электрических характеристик и лучшее понимание происходящих в поглощающих элементах процессов. Значительный интерес представляет тепловая устойчивость поглощающих элементов при импульсном воздействии, зависящая от ряда трудно моделируемых конструктивно-технологических факторов. В работе с использованием программного комплекса Elcut проведено моделирование режима работы пленочного поглощающего элемента, в котором все выделяемое входными импульсами тепло поглощается пленкой с учетом зависимостей ее удельного поверхностного сопротивления и удельной теплоемкости от температуры. Исследованы зависимости плотности тепловыделения, распределения удельного поверхностного сопротивления и напряженности электрического поля по поверхности резистивной пленки для ряда топологий поглощающих элементов больших и малых ослаблений - типовых и оптимизированных - с более равномерным распределением плотности тока и градиентов потенциала по поверхности пленки. Предложена методика и приведены зависимости входного сопротивления и ослабления поглощающего элемента от энергии входного импульса, удельной теплоемкости и температурного коэффициента удельного сопротивления с учетом их температурных зависимостей для типовых материалов резистивных пленок. Показано, что ключевые параметры поглощающих элементов могут изменяться в ряде случаев более чем на 40 &amp;#37; по ослаблению и более чем на 80 &amp;#37; по входному сопротивлению. Предложенная методика может быть использована для определения максимальной энергии входного импульсного сигнала по наивысшей мгновенной допустимой температуре перегрева резистивной пленки.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>пленочный поглощающий элемент</kwd><kwd>аттенюатор</kwd><kwd>импульсный режим</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>absorbing film element</kwd><kwd>attenuator</kwd><kwd>pulse mode</kwd></kwd-group><funding-group/></article-meta>
  </front>
  <body/>
  <back>
    <ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Повышение надежности и качества ГИС и МИС СВЧ: монография. Кн. 1 / под ред. А. Г. Гудкова, В. В. Попова. М.: Автотест, 2012. 212 с. EDN: QMXFQR</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Improving the reliability and quality of microwave hybrid IC and monolithic IC, monograph. Book 1,</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">eds A. G. Gudkov, V. V. Popov. Moscow, Avtotest Publ., 2012. 212 p. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>2.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Повышение надежности и качества ГИС и МИС СВЧ: монография. Кн. 2 / под ред. А. Г. Гудкова, В. В. Попова. М.: Автотест, 2013. 214 с. EDN: ZGAZNZ</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Improving the reliability and quality of microwave hybrid IC and monolithic IC, monograph. Book 2, eds A. G. Gudkov, V. V. Popov. Moscow, Avtotest Publ., 2013. 214 p. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Повышение надежности и качества ГИС и МИС СВЧ: монография. Кн. 3 / под ред. В. Н. Вьюгинова, А. Г. Гудкова, В. В. Попова. М.: Вираж-Центр, 2016. 252 с. EDN: ZGCZOH</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Improving the reliability and quality of microwave hybrid IC and monolithic IC, monograph. Book 3, eds V. N. V’yuginov, A. G. Gudkov, V. V. Popov. Moscow, Virazh-Tsentr Publ., 2016. 252 p. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Горбачев В., Кочемасов В. Резисторы – основные типы и характеристики. Ч. 4 // Электроника: Наука, технология, бизнес. 2021. № 8 (209). С. 102-113. -. DOI: 10.22184/1992-4178.2021.209.8.102.113 EDN: BVAALV</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Gorbachev V., Kochemasov V. Resistors – basic types and characteristics. Part 4. Elektronika: Nauka, tekhnologiya, biznes = Electronics: Science, Technology, Business, 2021, no. 8 (209), pp. 102‒113. (In Russian). https://doi.org/10.22184/1992-4178.2021.209.8.102.113</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>5.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Крючатов В. И., Карамов Ф. А. Конструктивно-технологические вопросы проектирования тонкопленочных резистивных нагрузок ГИС СВЧ диапазона при воздействии импульсной СВЧ мощности // Электронное приборостроение: науч.-практ. сб. Вып. 5 (26). Казань: Отечество, 2002. С. 108-116.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Kryuchatov V. I., Karamov F. A. Structural and technological issues of designing thin-film resistive loads of microwave range HIC on exposure to pulsed microwave power. Elektronnoe priborostroenie, research-to-practice collection. Iss. 5 (26). Kazan, Otechestvo Publ., 2002, pp. 108‒116. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Корж И. А., Кузнецов А. Н. Исследование резистивных пленок TаN с минимальным ТКС для мощных ВЧ нагрузок и аттенюаторов // Техника радиосвязи. 2017. № 4 (35). С. 117-124. EDN: BTPDJY</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>14.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Korzh I. A., Kuznetsov A. N. The research of TaN resistive films with a minimum TCR for powerful RF loads and attenuators. Tekhnika radiosvyazi = Radio Communication Technology, 2017, no. 4 (35), pp. 117‒124. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B14"><label>7.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Корж И. А., Кузнецов А. Н. Тонкие резистивные пленки на основе соединений тантала для изготовления мощных ВЧ-нагрузок и аттенюаторов // Техника радиосвязи. 2016. № 4 (31). С. 69-76. EDN: YGARVB</mixed-citation></ref><ref id="B15"><label>16.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Korzh I. A., Kuznetsov A. N. Thin resistive films based on tantalum compounds for manufacturing powerful RF loads and attenuators. Tekhnika radiosvyazi = Radio Communication Technology, 2016, no. 4 (31), pp. 69‒76. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B16"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Гладких М. В., Моин И. И. Мощная широкополосная нагрузка на поликристаллическом алмазе // Твердотельная электроника, сложные функциональные блоки РЭА: материалы науч.-техн. конф. (Владимир, 21-23 марта 2007 г.). Ч. 1. Владимир: МНТОРЭС им. А. С. Попова, 2007. С. 33-34.</mixed-citation></ref><ref id="B17"><label>18.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Gladkikh M. V., Moin I. I. Powerful broadband load on polycrystalline diamond. Tverdotel’naya elektronika, slozhnye funktsional’nye bloki REA, research-to-practice conference proceedings (Vladimir, 21–23 Mar. 2007). Pt. 1. Vladimir, MNTORES im. A. S. Popova Publ., 2007, pp. 33‒34. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B18"><label>9.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Корж И. А., Зима В. Н., Евдокимов М. А. Мощные пленочные резисторы на подложках из AlN и Al2O3 для ВЧ аттенюаторов большой мощности // Радиотехника, электроника и связь ("РЭиС-2011"): сб. докладов Междунар. науч.-техн. конф. (Омск, 5-8 июля 2011 г.). Омск: ОНИИП, 2011. С. 478-484. EDN: TXVZNN</mixed-citation></ref><ref id="B19"><label>20.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Korzh I. A., Zima V. N., Evdokimov M. A. Powerful film resistors on AlN and Al2O3 substrates for HF high-power attenuators. Radiotekhnika, elektronika i svyaz’ (“REiS-2011”), proceedings of International sci.-tech. conference (Omsk, 5–8 July 2011). Omsk, Omsk Scientific-Research Institute of Instrument Engineering, 2011, pp. 478–484. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B20"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Пилькевич А. В., Садков В. Д. Изменение параметров пленочных поглощающих элементов под действием импульсной мощности // Программа и аннотации докладов XXIX Междунар. науч.-техн. конф. "Информационные системы и технологии - ИСТ-2023" (г. Н. Новгород, 29 мая - 2 июня 2023 г.). Н. Новгород: Нижегород. гос. техн. ун-т им. Р. Е. Алексеева, 2023. С. 33.</mixed-citation></ref><ref id="B21"><label>22.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Pilkevich A. V., Sadkov V. D. Changing the parameters of film absorbing elements under the action of pulsed power. Program and annotations of reports XXIX International Scientific and Technical Conference “Information Systems and Technologies – IST-2023” (Nizhny Novgorod, May 29 – June 2, 2023). Nizhny Novgorod: Nizhny Novgorod State Technical. R. E. Alekseev University, 2023, p. 33.</mixed-citation></ref><ref id="B22"><label>11.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Двухслойные теплоотводящие диэлектрические подложки алмаз - нитрид алюминия / В. Г. Ральченко, А. В. Савельев, А. Ф. Попович и др. // Микроэлектроника. 2006. Т. 35. № 4. С. 243-247. EDN: HUIIOH</mixed-citation></ref><ref id="B23"><label>24.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Ralchenko V. G., Saveliev A. V., Popovich A. F., Vlasov I. I., Voronina S. V., Ashkinazi E. E. CVD diamond coating of AlN ceramic substrates to enhance heat removal. Russ. Microel., 2006, vol. 35, iss. 4, pp. 205–209. https://doi.org/10.1134/S1063739706040019</mixed-citation></ref><ref id="B24"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Потенциал отечественного алмаза. Теплоотводы / А. Колядин, В. Лучинин, Ю. Ягудаев и др. // Электроника: Наука, технология, бизнес. 2022. № 5 (216). С. 50-61. -. DOI: 10.22184/1992-4178.2022.216.5.50.61 EDN: KAHAKL</mixed-citation></ref><ref id="B25"><label>26.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Kolyadin A., Luchinin V., Yagudaev Yu., Bokhov O., Ilyin S., Klepikov I., Nozhkina A. Potential of domestic diamond. Heat sinks. Elektronika: Nauka, tekhnologiya, biznes = Electronics: Science, Technology, Business, 2022, no. 5 (216), pp. 50‒61. (In Russian). https://doi.org/10.22184/1992-4178.2022.216.5.50.61</mixed-citation></ref><ref id="B26"><label>13.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Подшибякин С. В. Композиционные керметные резистивные, проводниковые и защитные материалы для толстопленочных резисторов // Электронная промышленность. 2008. № 4. С. 46-56. EDN: JXFZAR</mixed-citation></ref><ref id="B27"><label>28.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Podshibyakin S.V. Composite cermet resistive, conductive and protective materials for thick-film resistors. Elektronnaya promyshlennost’, 2008, no. 4, pp. 46‒56. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B28"><label>14.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Подвигалкин В. Я. Возможности толстых пленок микроэлектроники в создании элементной базы радиоэлектронных систем (обзор) // Микроэлектроника. 2013. Т. 42. № 5. С. 348-360. -. DOI: 10.7868/S0544126913050062 EDN: QYNIFD</mixed-citation></ref><ref id="B29"><label>30.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Podvigalkin V. Ya. Possibilities of thick microelectronics films in creating the element base of radioelectronic systems (review). Mikroelektronika, 2013, vol. 42, no. 5, pp. 348‒360. (In Russian). https://doi.org/10.7868/S0544126913050062</mixed-citation></ref><ref id="B30"><label>15.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Богомолов П. Г. Методы расширения полосы рабочих частот пленочных СВЧ-аттенюаторов // Успехи современной радиоэлектроники. 2015. № 10. C. 145-148. EDN: VPYVSF</mixed-citation></ref><ref id="B31"><label>32.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Bogomolov P. G. Extension methods operating frequency band film microwave attenuators. Uspekhi sovremennoy radioelektroniki = Achievements of Modern Radio Electronics, 2015, no. 10, pp. 145‒148. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B32"><label>16.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Давидович М. В., Мещанов В. П., Никулина A. C., Попова Н. Ф. Электродинамическое моделирование неоднородных линий с потерями: расчет нагрузок и аттенюаторов // Электронная промышленность. 2000. № 1. С. 73-83.</mixed-citation></ref><ref id="B33"><label>34.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Davidovich M. V., Meshchanov V. P., Nikulina A. S., Popova N. F. Electrodynamic modeling of inhomogeneous lines with losses: Calculation of loads and attenuators. Elektronnaya promyshlennost’, 2000, no. 1, pp. 73‒83. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B34"><label>17.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Садков В. Д., Горячев Ю. А. Расчет тонкопленочной аттенюаторной пластины // Техника средств связи. Сер. Радиоизмерительная техника. 1977. № 2. С. 13-19.</mixed-citation></ref><ref id="B35"><label>36.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Sadkov V. D., Goryachev Yu. A. Calculation of thin-film attenuator plate. Tekhnika sredstv svyazi. Ser. Radioizmeritel’naya tekhnika, 1977, no. 2, pp. 13‒19. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B36"><label>18.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Пилькевич А. В., Фомина К. С., Садков В. Д. Оптимизация топологии пленочных поглощающих элементов ВЧ и СВЧ аттенюаторов // Проектирование и технология электронных средств. 2020. № 1. С. 8-12. EDN: WTBBEU</mixed-citation></ref><ref id="B37"><label>38.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Pilkevich A. V., Fomina K. S., Sadkov V. D. Optimization of topology of the film absorbing elements HF and very high frequency of attenuators. Proyektirovaniye i tekhnologiya elektronnykh sredstv, 2020, no. 1, pp. 8‒12. (In Russian).</mixed-citation></ref><ref id="B38"><label>19.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Фомина К. С., Пилькевич А. В., Садков В. Д. Оптимизация топологии пленочных чип-элементов ВЧ и СВЧ аттенюаторов // Нано- и микросистемная техника. 2019. Т. 21. № 9. С. 540-545. -. DOI: 10.17587/nmst.21.540-545 EDN: WGRAEQ</mixed-citation></ref><ref id="B39"><label>40.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Fomina K. S., Pilkevich A. V., Sadkov V. D. Optimization of the topology of the film chip elements of high frequency and microwave attenuators. Nano- i mikrosistemnaya tekhnika = Nano- and Microsystem Technology, 2019, vol. 21, no. 9, pp. 540‒545. (In Russian). https://doi.org/10.17587/nmst.21.540-545</mixed-citation></ref><ref id="B40"><label>20.</label><mixed-citation xml:lang="ru">ELCUT: Программа моделирования электромагнитных и температурных полей // ELCUT [Электронный ресурс] / ООО "Тор", С.-Петербург. URL: https://elcut.ru/about_r.htm (дата обращения: 26.01.2024).</mixed-citation></ref><ref id="B41"><label>42.</label><mixed-citation xml:lang="ru">ELCUT: electromagnetic and thermal field simulation software. ELCUT by ООО “Tor”, St. Petersburg.</mixed-citation></ref><ref id="B42"><label>43.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Available at: https://elcut.ru/about_r.htm (accessed: 26.01.2024).</mixed-citation></ref><ref id="B43"><label>21.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Краткий справочник физико-химических величин / под ред. К. П. Мищенко, А. А. Равделя. 7-е изд., испр. Л.: Химия, 1974. 200 с.</mixed-citation></ref><ref id="B44"><label>45.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Brief reference of physical and chemical quantities, eds K. P. Mishchenko, A. A. Ravdel. 7th ed., rev. Leningrad, Khimiya Publ., 1974. 200 p. (In Russian).</mixed-citation></ref></ref-list>    
  </back>
</article>
