<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="research-article" dtd-version="1.2" xml:lang="en">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-id journal-id-type="issn">1561-5405</journal-id>
	    <journal-id journal-id-type="doi">10.24151/1561-5405</journal-id>	  
      <journal-id journal-id-type="publisher-id">Proceedings of Universities. Electronics</journal-id>
      <journal-title-group>
        <journal-title xml:lang="en">Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics"</journal-title>
        <trans-title-group xml:lang="ru">
          <trans-title>Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника»</trans-title>
        </trans-title-group>        
      </journal-title-group>      
      <issn publication-format="print">1561-5405</issn>
      <issn publication-format="online">2587-9960</issn>
      <publisher>
        <publisher-name xml:lang="en">National Research University of Electronic Technology</publisher-name>
        <publisher-name xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>                                    
      
    <article-id pub-id-type="doi">10.24151/1561-5405-2023-28-6-727-733</article-id><article-id pub-id-type="risc">XAFNUG</article-id><article-id pub-id-type="udk">666.112.4:544.72.05</article-id><article-categories><subj-group><subject>Mатериалы электроники</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title xml:lang="en">Resistive properties of structural glasses of microchannel plates</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Резистивные свойства конструкционных стекол микроканальных пластин</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Ашхотов Олег Газизович</string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Ашхотов</surname><given-names>Олег Газизович</given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Ashkhotov</surname><given-names>Oleg G.</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Oleg G. Ashkhotov</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Ашхотова Ирина Борисовна</string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Ашхотова</surname><given-names>Ирина Борисовна</given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Ashkhotova</surname><given-names>Irina B.</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Irina B. Ashkhotova</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-1"/></contrib><contrib contrib-type="author"><string-name xml:lang="ru">Магкоев Тамерлан Таймуразович</string-name><name-alternatives><name xml:lang="ru"><surname>Магкоев</surname><given-names>Тамерлан Таймуразович</given-names></name><name xml:lang="en"><surname>Magkoev</surname><given-names>Tamerlan T.</given-names></name></name-alternatives><string-name xml:lang="en">Tamerlan T. Magkoev</string-name><xref ref-type="aff" rid="AFF-2"/></contrib><aff id="AFF-1" xml:lang="ru">Kabardino-Balkarian State University named after H. M. Berbekov, Russia, 360004, Kabardino-Balkarian Republic, Nalchik, Chernyshevsky st., 173</aff><aff id="AFF-2" xml:lang="ru">North Ossetian State University named after K. L. Khetagurov, Russia, 362025, Republic of North Ossetia – Alania, Vladikavkaz, Vatutin st., 44-46</aff></contrib-group><pub-date iso-8601-date="2026-03-16" date-type="pub" publication-format="electronic"><day>16</day><month>03</month><year>2026</year></pub-date><volume>Том. 28 №6</volume><fpage>727</fpage><lpage>733</lpage><self-uri>http://ivuz-e.ru/en/issues/6-_2023/rezistivnye_svoystva_konstruktsionnykh_stekol_mikrokanalnykh_plastin/</self-uri><self-uri content-type="pdf">http://ivuz-e.ru#</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>The formation of a resistive emission layer in channels of microchannel plates occurs at the stage of thermochemical treatment in dilute acid and alkaline solutions. By varying the processing modes, it is possible to adjust the parameters of the finished device to a greater or lesser extent. In this work, in order to solve the problem of forming optimal electron-optical parameters of microchannel plates the change in the resistive characteristics of lead silicate glasses after treatment in chemical solutions are investigated. Using developed installations the electrical conductivity of a single channel, workpieces and the device as a whole was measured. It is shown that the operating electrical resistance of the microchannel plate due to self-heating is somewhat less than the true one. At temperatures higher than 200 °C, the resistance of the microchannel plate changes by several digits due to ionic conductivity. In addition to integral parameters measurement, one channel resistance was measured, its average value is 1•1014 Ohm. It has been established that the chemical treatment of structural glasses affects the high-temperature ionic conductivity but activation energy of electrical conductivity remains constant. The latter in its turn indicates the immutability of the conduction mechanism and the type of charge carriers. It is noted that the treatment of glasses in NaOH and HF solutions can significantly change their electrical resistance.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p>Создание резистивно-эмиссионного слоя в каналах микроканальных пластин происходит на этапе термохимической обработки в разбавленных кислотных и щелочных растворах. Варьируя режимы обработки, можно в той или иной мере менять параметры готового прибора. В работе для решения проблемы получения оптимальных электронно-оптических параметров микроканальных пластин исследованы резистивные характеристики свинцово-силикатных стекол после обработки в химических растворах. С использованием разработанной установки измерена электропроводность базовых стекол, одиночного канала, заготовок и прибора в целом. Показано, что рабочее электрическое сопротивление микроканальной пластины вследствие саморазогрева несколько меньше истинного. При температурах более 200 °C сопротивление микроканальной пластины меняется на несколько порядков вследствие ионной проводимости. Помимо измерения интегральных параметров измерено сопротивление одного канала, среднее значение которого равно 1·1014 Ом. Установлено, что химическая обработка образцов влияет на высокотемпературную ионную проводимость, но при этом энергия активации электропроводности не меняется. Последнее, в свою очередь, свидетельствует о неизменности механизма проводимости и типа носителей заряда. Отмечено, что обработка стекол в растворах NaOH и HF способствует значительному изменению их электрического сопротивления.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>lead silicate glasses</kwd><kwd>resistor</kwd><kwd>processing</kwd><kwd>electrical conductivity</kwd><kwd>ions</kwd><kwd>cations</kwd><kwd>characteristics</kwd><kwd>surface</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>lead silicate glasses</kwd><kwd>resistor</kwd><kwd>processing</kwd><kwd>electrical conductivity</kwd><kwd>ions</kwd><kwd>cations</kwd><kwd>characteristics</kwd><kwd>surface</kwd></kwd-group><funding-group><funding-statement xml:lang="ru">работа выполнена в рамках госзадания СОГУ FEFN-2021_0005.</funding-statement><funding-statement xml:lang="ru">the work was carried out within the framework of the state task FEFN-2021_0005 of the North Ossetian State University.</funding-statement></funding-group></article-meta>
  </front>
  <body/>
  <back>
    <ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Мазурицкий М. И., Лерер А. М., Кулов С. К., Самканашвили Д. Г. Структура поверхности микроканальных пластин и возбуждение рентгеновской флуоресценции внутри полых микрокапилляров // Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования. 2019. № 6. С. 43–52. https://doi.org/10.1134/S020735281906009X. – EDN: WKNXHS.</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Кулов С. К. Микроканальные пластины для электронно-оптических преобразователей. Владикавказ: СКГТУ, 1998. 196 с.</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Система для регистрации сверхслабых оптических сигналов / С. К. Кулов, А. М. Кабышев, Д. В. Бестфатер и др. // Датчики и системы. 2015. № 5 (192). С. 40–43. EDN: TWFBWP.</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Gys T. Micro-channel plates and vacuum detectors // Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. A. 2015. Vol. 787. P. 254–260. https://doi.org/10.1016/j.nima.2014.12.044</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Ашхотов О. Г., Магкоев Т. Т., Ашхотова И. Б. Взаимодействие свинцово-силикатных стекол с разбавленными растворами фтористоводородной кислоты // Стекло и керамика. 2021. № 5. С. 40–43. EDN: OFVYRV.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Алкацева Т. Д. Закономерности формирования и минимизация дефектов электронного изображения микроканальных пластин: дис. … канд. техн. наук. Владикавказ, 1999. 247 с. EDN: QDDNHH.</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Хатухов А. А., Ашхотов О. Г. Измерение сопротивления каналов микроканальных пластин с минимизацией токов утечки // Прикладная физика. 2003. № 4. С. 123–128.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Ашхотова И. Б. Влияние физико-химических операций на процесс формирования исполнительной поверхности микроканальных пластин: дис. … канд. техн. наук. Владикавказ, 2003. 167 с. EDN: NMMPRZ.</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Хатухов А. А. Закономерности формирования резистивных свойств микроканальных пластин: дис. … канд. техн. наук. Нальчик, 2003. 136 с.</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Авдеев К. А., Кулов С. К., Самканашвили Д. Г. Поведение сотовой структуры электронного изображения микроканальных пластин на хранении // Приоритеты мировой науки: новые подходы и актуальные исследования: сб. науч. тр. по материалам XXXVI Междунар. науч.-практ. конф. (Анапа, 30 дек. 2022). Анапа: «НИЦ ЭСП» в ЮФО, 2022. С. 6–11. EDN: NAYFSN.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Химическая технология стекла и сплавов: учебник для вузов / М. В. Артамонова, М. С. Асланова, И. М. Бужинский и др.; под ред. Н. М. Павлушкина. М.: Стройиздат, 1983. 432 с.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Взаимодействие свинцово-силикатного стекла с разбавленными растворами плавиковой кислоты / В. А. Толмачев, М. А. Окатов, В. В. Пальчевский и др. // Физика и химия стекла. 1990. Т. 16. № 1. С. 107–110.</mixed-citation></ref></ref-list>    
  </back>
</article>
