<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<article xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns:ali="http://www.niso.org/schemas/ali/1.0/" article-type="research-article" dtd-version="1.2" xml:lang="en">
  <front>
    <journal-meta>
      <journal-id journal-id-type="issn">1561-5405</journal-id>
	    <journal-id journal-id-type="doi">10.24151/1561-5405</journal-id>	  
      <journal-id journal-id-type="publisher-id">Proceedings of Universities. Electronics</journal-id>
      <journal-title-group>
        <journal-title xml:lang="en">Scientifical and technical journal "Proceedings of Universities. Electronics"</journal-title>
        <trans-title-group xml:lang="ru">
          <trans-title>Научно-технический журнал «Известия высших учебных заведений. Электроника»</trans-title>
        </trans-title-group>        
      </journal-title-group>      
      <issn publication-format="print">1561-5405</issn>
      <issn publication-format="online">2587-9960</issn>
      <publisher>
        <publisher-name xml:lang="en">National Research University of Electronic Technology</publisher-name>
        <publisher-name xml:lang="ru">Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"</publisher-name>
      </publisher>
    </journal-meta>
    <article-meta>                                    
      
    <article-id pub-id-type="udk">53.083.8:53.089.5;539.1.074</article-id><article-categories/><title-group><article-title xml:lang="en">Investigation of Mechanisms of Formation and Transport of Surface Molecular Contamination</article-title><trans-title-group xml:lang="ru"><trans-title>Исследование механизмов образования и переноса поверхностных молекулярных загрязнений</trans-title></trans-title-group></title-group><fpage>543</fpage><lpage>550</lpage><self-uri>http://ivuz-e.ru/en/issues/6-_2016/issledovanie_mekhanizmov_obrazovaniya_i_perenosa_poverkhnostnykh_molekulyarnykh_zagryazneniy/</self-uri><self-uri content-type="pdf">http://ivuz-e.ru/en/download/6_2016_1503_en.pdf</self-uri><abstract xml:lang="en"><p>The kinetic model of the surface molecular contamination, formed as a result of two-dimensional nucleation, has been investigated. The solutions to describe the structural characteristics of the growing pollution through a system of physical constants and the parameters of the growth process in the clean room technology industry have been obtained.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="ru"><p>Исследована кинетическая модель формирования поверхностных молекулярных загрязнений в результате двумерного зародышеобразования. Получены решения для описания структурных характеристик растущих загрязнений через физические константы системы и параметров процесса роста в чистых помещениях индустрии высоких технологий.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd/></kwd-group><funding-group/></article-meta>
  </front>
  <body/>
  <back>
    <ref-list><ref id="B1"><label>1.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Колмогоров А.Н. К статистической теории кристаллизации металлов // Изв. АН СССР. Сер. матем.  1937.  1:3.  С. 355–359.  URL: http://mi.mathnet.ru/rus/izv/v1/i3/p355 (дата обращения 16.02.2016).</mixed-citation></ref><ref id="B2"><label>2.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Kuni F.M. The Kinetics of Condensation under the Dynamical Conditions // Preprint IPT-84-178E  Kiev, 1984 (Institute of Theoretical Physics).</mixed-citation></ref><ref id="B3"><label>3.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Куни Ф.М., Гринин А.П. Кинетика гомогенной конденсации на этапе образования основной массы новой фазы // Коллоидный журнал.  1984.  Т. 46.  № 3.  С. 460465.</mixed-citation></ref><ref id="B4"><label>4.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Binder K. Theory for the dynamics of «clusters.» II. Critical diffusion*in binary systems and the kinetics of phase separation // Phys. Rev. B.  1977.  Vol. 15.  P. 44254447.</mixed-citation></ref><ref id="B5"><label>5.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Kashchiev D. Growth kinetics of dislocation-free interfaces and growth mode of thin films // J. Cryst. Growth.  1977.  Vol. 40.  P. 2946.</mixed-citation></ref><ref id="B6"><label>6.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Беленький В.З. Геометрико-вероятностные модели кристаллизации.  М.: Наука, 1980.  80 с.  URL: http://www.twirpx.com/file/624512 (дата обращения 16.02.2016).</mixed-citation></ref><ref id="B7"><label>7.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Трофимов В.И., Осадченко В.А. Рост и морфология тонких пленок.  М.: Энергоатомиздат, 1993.  271 с.</mixed-citation></ref><ref id="B8"><label>8.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Dubrovskii V.G. Nucleation and Growth of Adsorbed Layer Self-Consistent Approach Based on Kolmogoroff-Avrami Model // Phys. Status Solidi B.  1992.  Vol. 171.  P. 345.</mixed-citation></ref><ref id="B9"><label>9.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Севрюкова E.A. Моделирование коагуляции высокой концентрации аэрозолей // Сб. материалов 4-й Междунар. науч.-практической конф. «Европейская наука и технологии» (Мюнхен, Германия, 2013).  2013.  С. 716718.</mixed-citation></ref><ref id="B10"><label>10.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Чернов А.А., Гиваргизов Е.И., Багдасаров Х.С. Современная кристаллография. Т3. Образование кристаллов.  М.: Наука, 1980.  407 с.</mixed-citation></ref><ref id="B11"><label>11.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Лившиц И.М., Слезов В.В. О кинетике диффузионного распада пересыщенных твердых растворов // ЖЭТФ.  1958.  Т. 35.  №2.  С. 479487.</mixed-citation></ref><ref id="B12"><label>12.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Алферов Ж.И. История и будущее полупроводниковых гетероструктур // ФТП.  1998.  Т. 32. – № 3.  С. 111.</mixed-citation></ref><ref id="B13"><label>13.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Кукушкин С.А., Осипов А.В. Кинетика образования новой фазы на поверхностях твердых тел // ФТТ.  1996.  Т.38.  N2.  С. 443–451.</mixed-citation></ref><ref id="B14"><label>14.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Севрюкова Е.А. Модели коагуляции и механизм роста агломератов в чистых помещениях микроэлектроники // Прикладная физика.  2012.  №5.  С. 3741.</mixed-citation></ref><ref id="B15"><label>15.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Дубровский В.Г., Цырлин Г.Э. Динамика роста однокомпонентной кристаллической тонкой пленки // ЖТФ.  1997.  Т. 67.  Вып. 11.  С. 136138.</mixed-citation></ref><ref id="B16"><label>16.</label><mixed-citation xml:lang="ru">Севрюкова Е.А., Кузьмишкин Г.С. Анализ влияния молекулярных аэрозольных загрязнений в чистых помещениях нано- и микроэлектроники // Инфраструктура объектов природно-технических геосистем: сб. научн. тр. / Под ред. Каракеяна В.И. – М.: МИЭТ. – 2013. – С. 5360.</mixed-citation></ref></ref-list>    
  </back>
</article>
